Особенности фоторезистa
Фоторезист представляет собой слой несеребряного светочувствительного материала, нанесенный на полиэтилентерефталатную пленочную основу. Поверхность светочувствительного слоя защищена полиэтиленовой пленкой, которая удаляется перед началом работ с фоторезистом.
Технические характеристики
Наименование показателя |
Норма |
---|---|
Толщина светочувствительного слоя, мкм |
50 * |
Толщина полиэтилентерефталатной основы, мкм |
20 |
Толщина защитной полиэтиленовой пленки, мкм |
35 |
Эффективное время экспонирования от источника ДРТГ-3000 в области спектра 320-420 нм, с, не более |
35 |
Разрешающая способность (минимальная ширина между соседними электропроводящими дорожками), мкм |
120 |
Свойства МПФ-ВЩ
Гальваностойкость экспонированного фоторезиста обеспечивает качественное осаждение слоя металла из электролита с рН менее 7. Химическая стойкость экспонированного фоторезиста обеспечивает обработку в растворах с рН до 10 в течение минуты и более при температуре раствора (18-25) °С. фоторезист выпускается в рулонах шириной 300 и 590 мм, длиной по 70 м.
Варианты поставки
Упаковка по 2 или 4 рулона в гофро-короб.